第455章 浸潤式光刻機技術

　　一直沉默不語的林本堅突然說道：“楊總，光刻機的光源一直停滯在193納米的波長，各大光刻機公司絞盡腦汁，也無法將波長縮短到157納米，所以我想嘗試遊說光刻機廠家，另闢蹊徑，轉換設計理念，把傳統的空氣為介質的乾式微影技術，改為浸潤式光刻工藝……”

　　楊墨心頭一動，幾乎脫口而出道：“浸潤式光刻工藝？”

　　林本堅連忙解釋道：“楊總，浸入式光刻方案並非心血來潮，我在ib

　　“那依你之見呢？”楊墨饒有興趣的問道。